据新华社北京９月２８日电 （记者 邹声文 崔清新） 国家８６３计划集成电路制造装备重大专项“１００纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”２８日在北京宣布通过科技部与北京市组织的项目验收，这标志着我国集成电路制造核心装备的研发取得了重大突破。

　　科技部高新技术发展及产业化司司长冯纪春评价说，这次１００纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机两种设备的研制成功，让我国高端集成电路核心设备技术水平跨越了５代。科技部高新技术发展及产业化司副司长戴国强说，使用我国自主研发的设备与进口国外同类设备相比还可节约２０％的成本。